水使用量

目標

グローバル全生産拠点での水使用量を2015年度比6%削減

取り組み姿勢

世界全体では、経済発展や人口増加による水使用量の増加で水リスクが懸念されています。
限りある水資源の有効活用のため、取水量の削減に取り組みます。

2017年度総括

2014年度からCDP Waterを基準に水資源の把握を進めています。

2017年度は生産拠点の削減取り組みにより、グローバル全生産拠点の取水量を2015年度比5.9%削減しました。

2017年度のサステナビリティ課題設定にあわせて、オムロンとして取り組む環境関連社会的課題を設定しました。これに基づき、グローバル全生産拠点での水資源有効活用のための取り組みを進めています。

取水量・排水量(日本・海外)

単位(千m3

    2013年度 2014年度 2015年度 2016年度 2017年度
日本 取水量 836 779 728 721 712
排水量 780 722 615 598 607
海外 取水量 1,145 1,343 1,024 962 936
排水量 1,008 1,178 857 827 791
合計 取水量 1.982 2,122 1,752 1,683 1,648
排水量 1,788 1,899 1,472 1,425 1,398
売上高原単位(千m3/百万円) 0.0025 0.0025 0.0021 0.0021  0.0019
  • <注>2016年度までの売上高原単位の分子を排水量にしておりましたが、取水量の削減に取り組んでおりますので、過去分を含めて取水量に変更します。

グラフ:水使用量、排水量

野洲事業所での水使用削減の取り組み

半導体の製造に大量の水を必要とする野洲事業所では取水源として地下水を活用しています。
地下水には金属、塩等の不純物が多く含まれているため、除鉄除マンガン塔、イオン交換塔によるろ過処理を行った上で水を使用しています。
ろ過を繰り返すとろ材に汚れが堆積するため、定期的に逆洗・洗浄工程による汚れ除去が必要になります。
これまでは洗浄工程に用いた処理水は全て下水道に排水していましたが、洗浄工程初期を除く、比較的清浄な処理水を再利用できる様、水処理プロセスを変更しました。
その結果、年間5,300m3の地下水取水量の削減を実現しました。

水リスクへの対応

CDP Waterが評価基準として認めているWRI AQUEDUCTとリスクマネジメントコンサルティング会社提供の水リスク分析サービスによって、水リスクにさらされている拠点を把握しています。

水リスクにさらされている拠点は、中国(大連)とインドネシア(Bekasi)で、2017年度の取水量は計165千m3です。現在のところ、行政当局からの取水量削減、排水水質向上といった指導、指示はありませんが、自主的に水資源の保護に取り組んでいます。

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